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Na2SO4水溶液中Mg-10Gd-2Y-0.5Zr微晶薄膜的电化学腐蚀行为

王赫男 , 李瑛 , 王福会

腐蚀科学与防护技术

利用磁控溅射技术制备了晶粒尺寸为300 nm~400 nm的 GW102K (Mg-10Gd-2Y-0.5Zr)微晶薄膜.通过动电位极化曲线和电化学阻抗谱(EIS)研究微晶薄膜在0.2 mol/L Na2SO4水溶液中的腐蚀行为. 极化曲线结果表明, 微晶化加速GW102K靶材合金的阴极过程, 而抑制其阳极过程. EIS结果表明, 微晶化降低GW102K靶材合金在自腐蚀电位下的转移电阻和腐蚀产物膜电阻, 从而降低其耐蚀性.微晶化提供大量的晶粒边界, 氢原子通过晶粒边界快速扩散, 生成氢化物, 从而加速GW102K靶材合金的阴极反应速率. 此外, 微晶化促进金属的阳极溶解, 使微晶薄膜表面形成大量均匀的腐蚀产物, 从而抑制金属的进一步溶解.

关键词: Mg-10Gd-2Y-0.5Zr , microcrystalline (MC) film , corrosion behavior , hydrides , magnetron sputtering

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